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2000. 01 º¥Ã³±â¾÷È®ÀÎ
2000. 01 ±â¾÷ºÎ¼³¿¬±¸¼Ò ÀÎÁõ
2000. 02 ±â¼úÇõ½Å°úÁ¦ ¼±Á¤
2000. 05 Àü¹®¿¬±¸Æ¯·Ê±â°ü¼±Á¤
2000. 05 ¾Ö·Î±â¼ú °úÁ¦ ¼±Á¤
2000. 08 Etch¿ë ¾àÁ¦ ³³Ç°°³½Ã
2000. 12 µå¶óÀÌ ½ºÅ©·¯¹ö "INOSIS"³³Ç°°³½Ã
2001. 08 Ion Implant ¾àÁ¦ ³³Ç°°³½Ã
2001. 12 »ê¾÷±â´É¿ä¿ø ÁöÁ¤¾÷ü
2002. 01 º¥Ã³±â¾÷ ÀçÈ®ÀÎ
2002. 04 ±â¼úÇõ½Å°úÁ¦ ¼±Á¤
2002. 06 PFC 󸮽ýºÅÛ(INO-PEC)°³¹ß
2002. 09 CVD¿ë ¾àÁ¦ ³³Ç°°³½Ã
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2002. 12 °ø±âûÁ¤±â ¹× ¾àÁ¦ °³¹ß¿Ï·á
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2007. 03 ¾È¼º°øÀå °í¼øµµ °¡½º Á¤Á¦½Ã¼³ ¿Ï°ø(Cl2, HBr)
2008. 06 °æ±âµµ ¼öÃâÀ¯¸ÁÁß¼Ò±â¾÷ ÁöÁ¤
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2009. 12. °í¼øµµ Cl2°øÀå °Ç¼³(È«ÀÎÈÇÐ ¿ï»ê°øÀå)
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