피에스케이(주) 기업정보

2009 Oct 300mm Low-K 장비개발 
2008 Dec 자랑스러운 삼성인상 (특별상) 수상 
2008 Dec 우수제조기술연구센터 지정 
2008 Dec 차세대 BOM SYSTEM 개발완료 
2007 12 전략물자 자율준수 무역거래자 지정(산업자원부) 
2007 Nov 신제품 IntegerⅢ(300mm Native Oxide Cleaning System)판매 개시 
2007 Nov 무역의 날 오천만불 수출의 탑, 철탑산업훈장 수상 
2007 Oct ISO27001 정보보호관리시스템 인증 
2007 Jul 화성 동탄 신사업장 준공 및 본사 이전 
2007 Feb 삼성전자 Best Partner Award 수상 
2007 Feb 대표이사, 코스닥상장법인협의회 회장 취임 
2006 Nov 무역의 날 삼천만불 수출의 탑 수상 
2006 Nov 신제품 INTEGER Ⅲ 개발(Dry Native Oxide Cleaning System) 
2006 Jun 세계일류상품 생산기업 인증 
2006 04 신제품 TSL3000(Si Treatment System)개발, INNO-BIZ 인증 
2005 Nov 노동부 장관상 ( 직업능력개발교육 우수기업 ) 
2005 Nov 2005 Deloitte Technology Fast 500 Asia Pacific Winners 수상 
2005 Feb 신제품 Supra III 개발 
2005 Jan ISO 14001 SYSTEMS 
2004 Nov 무역의 날 천만불 탑 수상 
2003 Apr 특허 취득 (클러스터 방식을 포함하는 반도체 소자 제조용 애셔 장비) 
2003 Mar 상호변경 
2003 Mar 특허 취득 (반도체 웨이퍼 애싱 방법) 
2002 Aug 해외 첫 장비 출하 
2001 Jul 벤처기업확인서 
2000 Oct ISO 9001인증(DNV인증원) 취득 
2000 Mar 조세의 날 경인 중부 국세청장상 수여 
2000 Feb 신제품 TERA 21 개발 
2000 Jan 미국텍사스주 오스틴에 현지법인 설립 
2000 Jan 삼성전자㈜ 국산화장비 동상 수여 
1999 Jun DAS-III S-MARK 인증 
1999 Jun 신제품 Supreme II 개발 
1997 Jun ISO 9002(DNV인증원) 인증 취득 
1997 Feb 신제품 DAS-III 개발 
1997 Jan KOSDAQ 등록 
1996 Oct 자본금 증자 ( 3,250백만원) 
1996 Feb 제 2공장 준공 
1994 Jan 신제품 ULTMA-III 개발 
1993 Jun 상공자원부 장관상 수상 
1992 Apr 한국반도체 산업협회 가입 
1990 Dec 제 1공장 준공 
1990 Dec 상공부 기술도입 계약 수리 
1990 Jun 법인 설립