회사소개
* 회사소개
당사는 1990년 6월 11일 설립되어,감광액 제거기 및 기타 반도체 제조용 장비 및 부품의 제조,판매,A/S를 주요사업으로 영위하고 있으며,경기도 평택시 송탄공업단지에 본사 및 공장을 두고 있습니다.
창사이래 꾸준한 연구개발을 통해 200mm 및 300mm용 반도체 Asher 장비를 개발 완료하여 양산 라인에 납품중에 있습니다.
2000년 3월에 본관 건물의 준공으로 제조 시설이 증대되어 년 60대 이상의 생산 능력을 갖추게 되었으며,Asher 분야에서의 국내 선두자리를 지키고 있습니다. 당사의 주요 고객은 삼성전자(주),하이닉스반도체(주)이며, 해외 판매를 위한 교두보 확보를 위해 미국의 현지 법인과 대만에 대리점을 개설,해외 시장을 겨냥하고 있습니다.
연혁
2009 Oct 300mm Low-K 장비개발
2008 Dec 자랑스러운 삼성인상 (특별상) 수상
2008 Dec 우수제조기술연구센터 지정
2008 Dec 차세대 BOM SYSTEM 개발완료
2007 12 전략물자 자율준수 무역거래자 지정(산업자원부)
2007 Nov 신제품 IntegerⅢ(300mm Native Oxide Cleaning System)판매 개시
2007 Nov 무역의 날 오천만불 수출의 탑, 철탑산업훈장 수상
2007 Oct ISO27001 정보보호관리시스템 인증
2007 Jul 화성 동탄 신사업장 준공 및 본사 이전
2007 Feb 삼성전자 Best Partner Award 수상
2007 Feb 대표이사, 코스닥상장법인협의회 회장 취임
2006 Nov 무역의 날 삼천만불 수출의 탑 수상
2006 Nov 신제품 INTEGER Ⅲ 개발(Dry Native Oxide Cleaning System)
2006 Jun 세계일류상품 생산기업 인증
2006 04 신제품 TSL3000(Si Treatment System)개발, INNO-BIZ 인증
2005 Nov 노동부 장관상 ( 직업능력개발교육 우수기업 )
2005 Nov 2005 Deloitte Technology Fast 500 Asia Pacific Winners 수상
2005 Feb 신제품 Supra III 개발
2005 Jan ISO 14001 SYSTEMS
2004 Nov 무역의 날 천만불 탑 수상
2003 Apr 특허 취득 (클러스터 방식을 포함하는 반도체 소자 제조용 애셔 장비)
2003 Mar 상호변경
2003 Mar 특허 취득 (반도체 웨이퍼 애싱 방법)
2002 Aug 해외 첫 장비 출하
2001 Jul 벤처기업확인서
2000 Oct ISO 9001인증(DNV인증원) 취득
2000 Mar 조세의 날 경인 중부 국세청장상 수여
2000 Feb 신제품 TERA 21 개발
2000 Jan 미국텍사스주 오스틴에 현지법인 설립
2000 Jan 삼성전자㈜ 국산화장비 동상 수여
1999 Jun DAS-III S-MARK 인증
1999 Jun 신제품 Supreme II 개발
1997 Jun ISO 9002(DNV인증원) 인증 취득
1997 Feb 신제품 DAS-III 개발
1997 Jan KOSDAQ 등록
1996 Oct 자본금 증자 ( 3,250백만원)
1996 Feb 제 2공장 준공
1994 Jan 신제품 ULTMA-III 개발
1993 Jun 상공자원부 장관상 수상
1992 Apr 한국반도체 산업협회 가입
1990 Dec 제 1공장 준공
1990 Dec 상공부 기술도입 계약 수리
1990 Jun 법인 설립
