ȸ»ç¼Ò°³
* ȸ»ç¼Ò°³
¼¼°èÃÖ´ëÀÇ Æ÷Å丶½ºÅ© Á¦Á¶¾÷üÀÎ ÅäÆÇ Æ÷Å丶½ºÅ©»ç<(±¸)µàÆù Æ÷Å丶½ºÅ©>´Â ¹Ì±¹À» ºñ·ÔÇÑ À¯·´, ¾Æ½Ã¾Æ Áö¿ª¿¡¼ 10°³ÀÇ »ý»ê½Ã¼³À» °¡µ¿Çϰí ÀÖÀ¸¸ç, R&D ¿¬±¸¼¾ÅͰ¡ ±¸ºñµÈ Çѱ¹ÀÇ ¹ýÀÎü´Â ¿ì¼öÇÑ ±â¼ú·ÂÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î ¸Å³â Áö¼ÓÀûÀÎ ¼ºÀåÀ» Çϰí ÀÖ½À´Ï´Ù. Photomasks´Â ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ »ý»êÀÇ °¡Àå ÇÙ½ÉÀûÀÎ ºÎǰÀ̸ç, Áö¼ÓÀûÀ¸·Î ¼ºÀå°ú ¹ßÀüÀÌ ÀÌ·ç¾îÁö°í ÀÖ´Â ÀüÀÚ »ê¾÷ÀÇ ÇÑ ºÐ¾ßÀÔ´Ï´Ù.
* °è¿»ç
ÀϺ» ÅäÆÇ ÇÁ¸°ÆÃ »ç
* ⸳À̳ä
¼¼°èÈÀÇ °Á¡°ú ÇöÁö¿¡¼ÀÇ Æ¯¼ºÀ» Ȱ¿ëÇÔÀ¸·Î½á, ±â¼úÀÇ ¿ì¼ö¼ºÀ» ²÷ÀÓ¾øÀÌ ¹ßÀü½ÃŰ´Â ¹Ì¼¼È¸·Î ±¸ÇöÀÇ À¯ÀÏÇÑ È¸»ç°¡ µÈ´Ù.
* ºñÀü
°í°´ÀÌ ¼¼»óÀ» º¯È½ÃŰ´Â µ¥ µµ¿òÀ» ÁÖ´Â ¹Ì¼¼È¸·Î ±¸Çö ±â¼úÀÇ ¼±µµÀû °ø±ÞÀÚ°¡ µÇÀÚ
* »ý»êÁ¦Ç°(¼ºñ½º¼Ò°³)
¹ÝµµÃ¼ Æ÷Å丶½ºÅ©
¿¬Çõ
1988. 11 ȸ»ç ¼³¸³ Àΰ¡ (ÁÖÁÖ: ¹Ì±¹ µàÆùÆ÷Å丶½ºÅ© Inc.)
1996. 02 Çѱ¹ µàÆù¢ß¿¡¼ ºÐ¸® µ¶¸³
2002. 10 ÇѰæ-·¹¹ö¸µ ÈǸ¢ÇÑ ÀÏÅÍ 20´ë ±â¾÷¿¡ ¼±Á¤
2003. 04 ³ëµ¿ºÎ ³²³à°í¿ëÆòµî ¿ì¼ö±â¾÷ ¼±Á¤
2005. 04 ÅäÆÇÇÁ¸°ÆÃ»ç¿Í ÇÕº´
2006. 04 Á¦2°øÀå ¿Ï°ø
2006. 12 Àη°³¹ß ¿ì¼ö ±â¾÷ü ¼±Á¤ (Çѱ¹»ê¾÷Àη°ø´Ü)