ȸ»ç¼Ò°³
ÁÖ½Äȸ»ç ÆÄÀÎÅØÀº 2007³â 4¿ù¿¡ ¼³¸³ÇÑ ¹ÝµµÃ¼ LCD ¹è°ü ½Ã°ø ¹× °ü·Ã ºÎǰÀ» Á¦Á¶Çϴ ȸ»çÀ̸ç, »ï¼ºÀüÀÚÀÇ 1Â÷ Çù·Â¾÷ü·Î¼ ²ÙÁØÇÑ ¸ÅÃâÇâ»óÀ» Áö¼ÓÇϰí ÀÖ½À´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ Ä¡¿ÇÑ ±Û·Î¹ú ½Ã´ë¿¡ µÚÃÄÁöÁö ¾Ê´Â ±â¾÷ÀÌ µÇ°íÀÚ ¿¬±¸¼Ò¸¦ ÅëÇÏ¿© ¹Ì·¡¼±µµ±â¼úÀÎ ºÐ¸®±â¼úÀ» ÀÀ¿ëÇÑ ¿Â½Ç°¡½º ºÐ¸®³óÃà½Ã½ºÅÛ, Å»¼ö ½Ã½ºÅÛ¿¡ ´ëÇÑ ¿¬±¸°³¹ßÀ» °è¼ÓÇϰí ÀÖÀ¸¸ç, Áß¼Ò±â¾÷û À¸·ÎºÎÅÍ À̳ëºñÁî±â¾÷À¸·Î ÀÎÁ¤ ¹Þ¾Ò°í, ¹Ì±¹, Áß±¹ µî¿¡ ÇØ¿ÜÁö»ç¸¦ ¼³¸³ÇÏ´Â µî °ú°¨ÇÑ ÅõÀÚ·Î ±Þº¯ÇÏ´Â ÁÖº¯È¯°æ¿¡ Àû±Ø ´ëÀÀÇϸç Áö¼ÓÀûÀ¸·Î ¹ßÀüÇϰí ÀÖ½À´Ï´Ù.
¿¬Çõ
2007. 04 ÁÖ½Äȸ»ç ÆÄÀÎÅØ ¼³¸³
2007. 10 ISO 9001/14001 ÀÎÁõ
2008. 07 °¡½º½Ã¼³½Ã°ø¾÷ Á¦1Á¾ ¸éÇã Ãëµæ
2008. 08 ¿¬±¸°³¹ßÀü´ãºÎ¼ ÀÎÁ¤ (Çѱ¹»ê¾÷±â¼úÁøÈïÇùȸ)
2008. 09 º¥Ã³±â¾÷ ÀÎÁ¤ (±â¼úº¸Áõ±â±Ý)
2009. 03 ÀÚº»±Ý ÁõÀÚ
2009. 08 »ï¼º¹°»ê Çù·Â¾÷ü µî·Ï
2009. 11 ƯÇã±Ç 1°Ç µî·Ï
2009. 12 ƯÇã±Ç 1°Ç µî·Ï
2010. 02 ƯÇã±Ç 1°Ç µî·Ï
2010. 03 ÇØ¿Ü Áö»ç ¼³¸³ (¹Ì±¹ ¿À½ºÆ¾)
2010. 06 ½Ç¿ë½Å¾È±Ç 1°Ç µî·Ï
2011. 04 »ï¼ºÀüÀÚ Çù·Â¾÷ü µî·Ï
2011. 07 ÆòÅýà ÁøÀ§¸éÀ¸·Î º»Á¡ ÀÌÀü
2013. 11 OHSAS18001 : 2007 ¾ÈÀüº¸°Ç°æ¿µ½Ã½ºÅÛ ÀÎÁõ
2013. 12 KOSHA18001 ¾ÈÀüº¸°Ç°æ¿µ½Ã½ºÅÛ ÀÎÁõ
2015. 08 Çö´ë°Ç¼³ Çù·Â¾÷ü µî·Ï
2015. 09 ±â°è¼³ºñ °ø»ç¾÷ ¸éÇã Ãëµæ
2017. 12 Àü±â°ø»ç¾÷/ Á¤º¸Åë½Å°ø»ç¾÷ ¸éÇã Ãëµæ
2018. 01 SfTA(Semiconductor facilities Technology Academy) ½Å¼³
2018. 03 »ê¾÷ȯ°æ¼³ºñ °ø»ç¾÷ ¸éÇã Ãëµæ
2018. 05 ½Ã³»±Ù·Îº¹Áö±â±Ý Àΰ¡
2018. 12 °æ±âµµ ÀÏÀÚ¸®¿ì¼ö±â¾÷ ¼±Á¤
2019. 01 û³âģȰ¼Ò±â¾÷ ¼±Á¤