2010³â
¢ß¾¾¿¡½ºÇÇ ¹ýÀÎÀüȯ
2011 ~ 2013³â
AÞäTube Cleaner(300mm)Àåºñ
JÞä Even À¯±â ÁõÂø¸· ¼¼Á¤Àåºñ
SÞä LCD LAB Àåºñ(5¼¼´ë)¿Ü ´Ù¼ö
Nano-titanium coatingÁ¦ ±¹³» µ¶Á¡ ´ë¸®Á¡
Si Wafer ±¹³»´ë¸®Á¡(MEMCÞä)
2014 ~ 2015³â
¡×CSP Áß¾Ó¿¬±¸¼Ò ¼³¸³
¡×KÞä Chemical Blending System & ACQC
¡× JÞä Metal Mask(6G Half) ¼¼Á¤¼³ºñ
¡×¹Ì±¹ AMETEK ±¹³»´ë¸®Á¡ °è¾à
(Dual Containment Tube µî)
2016 ~ 2017³â
2018 ~ 2019³â
¡×°æ±âµµÀ¯¸ÁÁß¼Ò±â¾÷ ÁöÁ¤
¡×¼öÃâ À¯¸ÁÁß¼Ò±â¾÷ ÁöÁ¤
¡×±â¼úÇõ½ÅÇüÁß¼Ò±â¾÷ ÀÎÁõ
¡×°æ¿µÇõ½ÅÇü Áß¼Ò±â¾÷ ÀÎÁõ
¡×JÞä MetalMask(6G Half) ¼¼Á¤¼³ºñÁ¦ÀÛ,³³Ç°
¡×Si wafer(300mm Batch type –Cassette less) ¼¼Á¤Àåºñ
¡×TÞä(Áß±¹) Metal Mask(6G Half) ¼¼Á¤¼³ºñ(IEC¹æÆø ÀÎÁõ)
¡×Metal Mask ¼¼Á¤ solution(CS-100SE, 701AC)°³¹ß(Áß±¹³³Ç°)
2020³â
¡×°æ±âµµ½ºÅ¸±â¾÷¼±Á¤
2021³â
¡×ÁøÀ§½Å»ç¿Á ÀÌÀü
¡×º¥Ã³±â¾÷ÀÎÁõ
2022³â
¡×¼öÃâÀ¯¸ÁÁß¼Ò¾÷±â¾÷ÁöÁ¤
| ÀÚº»ÃѰè | ¸ÅÃâ¾× | ¼øÀÌÀÍ | °á»êÀÏ |
|---|---|---|---|
| 22¾ï 2,251¸¸¿ø | 59¾ï 193¸¸¿ø | 1¾ï 1,241¸¸¿ø | 2024.12.31 |
´ÜÀ§: ¹é¸¸¿ø
| °á»ê ³âµµ | ÀÚº»ÃѰè | ¸ÅÃâ¾× | ¼øÀÌÀÍ |
|---|---|---|---|
| 2024 | 22¾ï 2,251¸¸¿ø ¡è | 59¾ï 193¸¸¿ø ¡è | 1¾ï 1,241¸¸¿ø ¡è |
| 2023 | 21¾ï 1,010¸¸¿ø ¡è | 54¾ï 244¸¸¿ø ¡è | 1¾ï 956¸¸¿ø ¡é |
| 2022 | 20¾ï 314¸¸¿ø | 42¾ï 6,657¸¸¿ø | 1¾ï 3,175¸¸¿ø |
Á¤º¸Á¦°ø: ³ªÀ̽ºµð¿£ºñ
µ¿ÀÏ ±â¾÷ÀÌ¶óµµ Å¸Áö¿ª ä¿ëÀÇ °æ¿ì, ȸ»ç ÁÖ¼Ò¿Í Àα٠ÁöÇÏö Á¤º¸°¡ »óÀÌÇÒ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.