(ÁÖ)¿¥¿¡ÀÌÄÉÀÌ´Â ´ë±â¾ÐÇöóÁ ¼Ò½º ¹× ´ë±â¾Ð ÇöóÁ ÀåºñÁ¦ÀÛ Àü¹®±â¾÷À¸·Î FPD(Flat Panel Display)Á¦Á¶, °¢ Á¾ Film Á¦Á¶°øÁ¤ µî Àû¿ë ¿ëµµº°·Î Æ¯ÈµÈ ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç°±º Á¦ÀÛ/»ý»êÀÌ °¡´ÉÇÑ Àü¹®±â¼úÀ» º¸À¯ÇÑ ±â¼úÇõ½Å ±â¾÷ÀÔ´Ï´Ù.
¡á ºñÀü : ¹ÝµµÃ¼, µð½ºÇ÷¹ÀÌ, IT, Çõ½Å&À¶ÇÕ±â¼úÀ» À̲ô´Â ¼±µÎ ÁÖÀÚ°¡ µÇÀÚ!
1) ÀÏÇÏ´Â ¹®È :
energy : Ȱ±âÂ÷°í ½Å¸í³ª°Ô ÀÏÇÏ´Â Á¶Á÷
Intelligence : Áö½Ä±â¹ÝÀÇ È¿À²ÀûÀÎ ¾÷¹« ÃßÁø
Integrity : Á¤µµ°æ¿µ°ú »çȸ°øÇå
2) °æ¿µ¿øÄ¢ :
°æ¿µÀÚ¿Í Á÷¿ø°£ ½Å·Ú±¸Ãà : ÀÚÀ²Àû ¾÷¹« ¹®È ±¸ÇöÀ» ÅëÇÑ Ã¢ÀÇÀû »ç°í¿Í ¾÷¹« ÃßÁø
Á¶Á÷¿øÀÇ ÀÚºÎ½É ¹ßÇö : Á÷¿ø ½º½º·Î ¸ôÀÔÇÏ°í ¿Á¤À» ´ÙÇÏ¿© ÀÏÇÏ´Â ¹®È
ºñÀü°ú °¡Ä¡¸¦ °øÀ¯ : ÀÚ¹ßÀûÀÎ Âü¿© ÃßÁø
3) °³ÀÎ :
Plan-Do-See : °èȹÇÏ°í ½ÇõÇÏ°í ½º½º·Î Á¡°ËÇÏ´Â ¾÷¹« ¹®È
4) ȸ»ç :
Plan-Do-Trust : °èȹÇÏ°í ½ÇõÇÏ°í ¹Ï°í ¸Ã±â°í, ½ÇÆÐ¸¦ ÅëÇÑ Çõ½Åµµ µÎ·Á¿ö ÇÏÁö ¾Ê´Â´Ù.
¡á °æ¿µÀ̳ä
1) °í°´Á᫐ : °í°´¸¸Á·À» À§ÇØ ³ë·ÂÇÏ´Â ±â¾÷
2) »ç¶÷Áß½É: °í°´°ú ÀÓÁ÷¿øÀÌ ÇູÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ±â¾÷
3) ±â¼úÁ᫐ : Â÷º°È¿ìÀ§°¡Ä¡Áß½ÉÀÇ Á¦Ç° °³¹ß ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ±â¾÷
2022
¡á ISO45001 ÀÎÁõ
2021
¡á 2Â÷ ÀüÁö ¹èÅ͸® ½Ã½ºÅÛ ±â¼ú °³¹ß
¡á 2Â÷ ÀüÁö ¹èÅ͸® Å×½ºÆ® ½Ã½ºÅÛ È°¼ºÈ
2020
¡á ¿À¶óŬ¿öÅͽýºÅÛ Á¦ÀÛ & È£¼ö, ° ¼öÁúÁ¤È ½Ã¹ü»ç¾÷ Âü¿©
¡á ¿ÀÁî³»Ãß·²(O3z natural) Á¦Ç° ¾ç»óÈ
¡á KF94 ¸¶½ºÅ©¼³ºñ Á¦ÀÛ ¹× ¼öÁÖ°è¾à ü°á
2019
¡á ´ëÇ¥ÀÌ»ç ÃëÀÓ ( Àüº´ÁØ´ëÇ¥ )
¡á Áß±¹ ĪȴëÇÐ ¿¬±¸¿ø °øµ¿±â¼ú °³¹ß
¡á Áß±¹ ½Éõ°úÇбâ¼ú ¿¬±¸¿ø °øµ¿±â¼ú °³¹ß
2018
¡á »ç¿Á Áذø ¹× ÀÌÀü
¡á N2&CDA Chamber¿ë Plasma/USC Àåºñ °ø±Þ
2017
¡á Double Head DBD Plasma ÀåÄ¡ °³¹ß/°ø±Þ
2016
¡á Start development diamond deposition CVD
2015
¡á Supply Descum machine for 8" wafer
¡á Supply N2 Plasma for flexible & edge display.
¡á Supply Ar Plasma for bio-experement to waseda university.
2014
¡á Bended Panel¿ë N2Plasma °ø±Þ
¡á DIP Cleaning Machine°³¹ß
¡á Descum¿ë Vacuum Plasma Machine °ø±Þ
2013
¡á Barrel Type Hydrophobic Vacuum Plasma°ø±Þ
¡á ±¹Ã¥°úÁ¦ ½ÃÇà(32¡± Touch Panel Development)
¡á MLCC¿ëVacuum Plasma System °ø±Þ
2012
¡á INNOBIZ Company·Î ¼±Á¤
¡á TSP¿ë Dry Cleaning System°ø±Þ
¡á Plasma System Áß±¹ ¼öÃâ
¡á Ar Plasma System °ø±Þ
2011
¡á ±¹Ã¥°úÁ¦ ½ÃÇà(Flexible Touch Panel Development)
¡á ±¹Ã¥°úÁ¦ ½ÃÇà(3D Display Lamination Plasma System)
¡á Plasma Torch System °ø±Þ
2010
¡á Film Process¿ë Plasma System°ø±Þ
¡á C/F Process¿ë Plasma System°ø±Þ
¡á ¿¬±¸¼Ò ¼³¸³,Venture Company¼±Á¤
¡á Carbon Wire Treatment¿ë Plasma Machine °ø±Þ
2009
¡á Film Lamination¿ë Plasma System°ø±Þ
¡á Film Cleaning¿ë Plasma System°ø±Þ
¡á Lamination¿ë Plasma System°ø±Þ
2008
¡á ÈÞ´ëÆù(ÅÍÄ¡) Á¦Á¶¿ë ÇöóÁ ¼³ºñ °ø±Þ(SMD)
¡á B»ç Pol Film ¼¼Á¤¿ë ÇöóÁ ¼³ºñ °ø±Þ
¡á S»ç ¼ÒÇü,ÁßÇü,´ëÇü LCD ¸ðµâ¶óÀο¡ ÇöóÁ Àåºñ °ø±Þ
2007
¡á »ç¸íÀ» PRONIX¿¡¼ MAK·Î º¯°æ
¡á INNOBIZ ±â¾Ð ÀÎÁõ
¡á Áß±âû ±â¼úÇõ½Å°úÁ¦ "ÇöóÁ ÀÀ¿ëºÐ¾ß" ½ÃÀÛ
¡á 310mm ´ë±â¾Ð ÇöóÁ ¿¡½Ì ½Ã½ºÅÛ °³¹ß
2006
¡á ´ë±â¾Ð ÇöóÁ ¼¼Á¤±â S-Mark ÀÎÁõ
¡á ´ë±â¾Ð ÇöóÁ ¼¼Á¤±â ƯÇã ÀÎÁõ
2005
¡á º¥ÃÄÀÎÁõ
¡á ISO 9001 ÀÎÁõ
2004
¡á »êÀÚºÎ, °øÅëÇٽɰúÁ¦ ¼±Á¤
¡á ´ë±â¾Ð ÇöóÁ ¼¼Á¤±â ¾ç»ê ¹× ´ë¸¸, Áß±¹ ¼öÃâ
¡á °æ±âµµ Family Cluster¾÷ü·Î ÁöÁ¤
¡á ¹Ì±¹ ƯÇãÀÎÁõ ¡°Plasma PFC gas scrubber¡±
| ÀÚº»ÃѰè | ¸ÅÃâ¾× | ¼øÀÌÀÍ | °á»êÀÏ |
|---|---|---|---|
| 118¾ï 7,247¸¸¿ø | 161¾ï 2,541¸¸¿ø | 1¾ï 5,109¸¸¿ø | 2025.12.31 |
´ÜÀ§: ¹é¸¸¿ø
| °á»ê ³âµµ | ÀÚº»ÃѰè | ¸ÅÃâ¾× | ¼øÀÌÀÍ |
|---|---|---|---|
| 2025 | 118¾ï 7,247¸¸¿ø ¡è | 161¾ï 2,541¸¸¿ø ¡è | 1¾ï 5,109¸¸¿ø ¡è |
| 2024 | 117¾ï 2,138¸¸¿ø ¡è | 72¾ï 9,558¸¸¿ø ¡é | - 17¾ï 1,949¸¸¿ø ¡é |
| 2023 | 86¾ï 4,280¸¸¿ø | 101¾ï 2,736¸¸¿ø | 1¾ï 642¸¸¿ø |
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