에이피티씨(주) 기업정보

2002.02 APTC㈜ 설립
2003.02 200mm 산화물 식각챔버 공동개발 성공적 완료
2003.03 중기청 벤처기업 지정 (신기술기업), 기업부설연구소 설립
2004.08 해외 $3,000,000 투자유치
2004.08 본사 확장 이전(Demo Lab 및 생산설비 확충)
2004.01 NET (New Technology) Mark 인증 (산업자원부 기술표준원)
2004.12 300mm 산화물 식각 시스템 공동개발 (SK하이닉스(주))
2005.06 한국산업은행 외 국내 및 해외 50억 투자유치
2005.07 200mm Metal Chamber 14대 판매 (SK하이닉스(주))
2005.01 해외규격 인증 획득 (CE, CEMI)
2005.11 병역특례 연구기관 선정 (병무청)
2005.12 대한민국 10대 신기술(산업자원부)
2005.12 차세대 세계일류상품 선정 (산업자원부)
2006.01 ISO 9001, ISO 14001 인증 획득
2006.01 IR52 장영실상 수상
2006.03 본사 및 공장 확장이전 (경기도 이천 소재 : 대지 2,300평)
2006.07 기술혁신형 중소기업(Inno-Biz) 선정
2007.09 제9회 반도체 기술대상 국무총리상 수상
2007.12 300mm Oxide 식각 시스템 양산 판매 성공(SK하이닉스(주))
2008.03 하이닉스협의회 회원업체 선정
2009.07 국내최초 300mm Metal Etch System 양산 판매 성공(SK하이닉스(주))
2010.04 LED Etcher 양산판매 성공(LG이노텍)
2010.11 300mm 플라즈마 도핑 장비 공동개발 납품(SK하이닉스(주))
2011.01 TSV Etcher 판매 계약
2011.11 300mm Poly Etcher Polaris 300 JDP납품(SK하이닉스(주))
2013.02 300mm Poly Etcher Polaris 300 판매(SK하이닉스(주))
2013.07 300mm 플라즈마 도핑 장비 APIS 300 판매(SK하이닉스(주))
2015.05 300mm Poly Etcher Leo NK I 개발
2015.11 300mm Poly Etcher Leo NK I SEMI S2-0712a 인증 획득(TUV NORD)
2016.01 300mm Poly Etcher NK I 양산판매 성공(SK하이닉스(주))/2016년 판매
2016.06 300mm Poly Etcher Leo NK I-C 개발 완료
2016.12 300mm Poly Etcher (Leo NK I-C 3대 판매)
2017.03 기술혁신기업 선정 (SK하이닉스(주))
2017.12 300mm Poly Etcher (Leo NK I-C 양산성공

2018.04 300mm Poly Etcher Leo NK I-C / 중국 SK Hynix WUXI법인 / 수출 판매 성공

2018.04 이달의 산업기술상 / 산업화기술 부문 장관상 수상

2018.08 코스닥 시장 상장(한국거래소)

2018.11 최우형 대표이사 취임

2018.12 무역의날 수상 (1천만불의탑, 산업통상자원부장관표창)

2019.05 SK하이닉스 동반성장협의회 회원사 선정

2019.10 미국 현지법인 설립(워싱턴 주)

2019.12 무역의날 수상( (3천만불의탑, 산업통상자원부장관표창)

2020.10 300mm Metal Etcher Nardo-M 중국 SK Hynix WUXI법인 / 수출판매성고

2021.01 300mm Poly Etcher Leo WH 양산판매 성공 (SK Hynix)