회사소개
-현재, 우리나라는 반도체 및 평판디스플레이 제품에 있어서 세계 정상을 점하고 있는 상황이나 상기 제품의 연구개발 및 생산에 필요한 장비는 대부분 전량 수입에 의존하는 처지로서 당사는 조금이나마 국가의 장비산업 발전에 기여하기 위해 1995년 2월 창업에 이르게 되었습니다.
---기초연구용 기기의 국산화와 선진화된 상용제품의 국산화라는 목표 아래 연구개발에 전념하여 1995년 11월경 이온소스 및 아크소스 개발을 시작으로 물리증착 및 화학기상증착 시스템, 에칭시스템을 꾸준히 개발해오고 있습니다.
---당사는 고객 최우선의 정책하에 고객지원팀을 가동하여 당사 제품에 대한 고객들의 기술지원 요청시 24시간 이내 현장지원을 수행하고 있으며, 수입장비를 보유하고 계신 고객이 장비유지 관리 및 사후 서비스에 대해 어려움을 겪는 경우 고객요청에 따른 장비 수리 및 변경 업무도 병행하여 수행하고 있습니다.
---한편 당사의 기술력은 임직원 모두 한테 달려있다는 판단하에 전임직원이 연구개발, 생산 및 기술지원 부분의 정보를 공유할 수 있는 시스템을 구축하였으며, 인재양성을 위한 교육투자에도 많은 노력을 기울이고 있습니다.
---앞으로 저희 아텍시스템의 모든 임직원은 제품 품질향상에 총력을 기울여 세계 최고 수준의 연구용 장비 및 산업용 양산장비를 공급하는 업체로 발돋움 할 것을 약속드리며 많은 지도 편달을 부탁드리는 바입니다.
반도체 및 디스플레이 장비 개발 및 생산 인력을 모셔서 국가의 핵심산업의 한축을 담당하고자 합니다.
연혁
기 간
주 요 내 용
1995년 2월
아텍시스템 설립
1995년11월
Ion Source 개발
1996년 9월
Arc Source 개발
1997년10월
Filtered Arc Source 장비 및 공정기술 개발
1998년 2월
PECVD용 고온(1200℃) 고속회전(750RPM) Substrate 개발
1998년 5월
SAW Filter전용 양산용 Sputter개발
1999년 7월
LPCVD 개발
2000년11월
부천시 테크노파크 이전
2001년 2월
부설연구소 설립
2001년 9월
Silica 증착용 PECVD 개발
2002년 1월
UHV(Ultra High Vacuum) Sputter 장비 개발
2002년 1월
PDP 양산기술 개발사업 참여 (주관기관 : 한국기계연구원)
2002년 4월
TCP (Transformer Coupled Plasma) Etcher 개발
2002년 8월
다층자성박막 제조용 UHV-Sputter 장비 생산
2002년 9월
질화막 증착을 위한 진공아크 장비 생산
2003년 2월
PDP 전극 보호코팅용 in-line 진공아크 증착장비 제작
2003년 7월
한국반도체 장비학회에서 고밀도 플라즈마 화학증착장비 관련하여 우수논문상 수상
2003년 11월
대용량 평면광원 고진공 테스트 장비 생산
2004년 1월
다기능 연구용 표준스퍼터 시스템 개발
2004년 7월
나노튜브와 나노와이어 분야에서 미국의 아토메이트(Atomate)사와 파트너쉽 체결
2005년 7월
독일의 프라운호퍼 연구소 및 FHR 사와 PVD 분야 파트너쉽 체결
2005년 10월
Atomate(USA)와 공동으로 MOCVD 장비개발 완료
2005년 11월
생산기술연구원과 공동으로 NPPN(New Post Plasma Nitriding) System 개발
2005년 11월
신축공장 준공
2005년 12월
레이져 프린터용 폴리곤 미러 증착장비 생산
2006년 3월
정밀광학용 이온빔스퍼터 장비 개발
2006년 4월
생산기술연구원과 공동으로 NPPN(New Post Plasma Nitriding) System 개발
2006년 10월
양산용 아크이온플레이팅 장비 및 플라즈마 질화장비 생산
2006년 11월
다양한 색상의 코팅을 위한 이온플레이팅 장비개발
2007년 4월
CNT 투명전극용 Arc CNT 합성 장비개발
2007년 9월
플렉시블 디스플레이 연구용 Web Coater 개발
2007년 12월
안경렌즈 코팅용 스퍼터 장비 개발 완료
2008년 1월
태양전지용 다결정 실리콘 잉곳 성장 장비 개발 완료
2008년 6월
태양전지 무반사 코팅 PECVD 장비 개발완료
2009년 8월
Graphene 증착용 PECVD 장비 개발완료
2009년 10월 베트남 호치민 대학 Thermal CVD 납품 및 장비 운영 교육
2010년 1월 인하대 정지원 교수팀과 아텍시스템, UNITEF로부터 우수 연구상 수상
2010년 3월 한국 생산기술연구원과 공동연구를 통해 양산규모의 알루미늄 플라즈마 질화 장비 개발 완료
