아텍시스템 기업정보

기 간
주 요 내 용

1995년 2월
아텍시스템 설립

1995년11월

Ion Source 개발

1996년 9월
Arc Source 개발

1997년10월
Filtered Arc Source 장비 및 공정기술 개발

1998년 2월

PECVD용 고온(1200℃) 고속회전(750RPM) Substrate 개발

1998년 5월
SAW Filter전용 양산용 Sputter개발

1999년 7월

LPCVD 개발

2000년11월

부천시 테크노파크 이전

2001년 2월

부설연구소 설립

2001년 9월

Silica 증착용 PECVD 개발

2002년 1월

UHV(Ultra High Vacuum) Sputter 장비 개발

2002년 1월

PDP 양산기술 개발사업 참여 (주관기관 : 한국기계연구원)

2002년 4월
TCP (Transformer Coupled Plasma) Etcher 개발

2002년 8월
다층자성박막 제조용 UHV-Sputter 장비 생산

2002년 9월
질화막 증착을 위한 진공아크 장비 생산

2003년 2월
PDP 전극 보호코팅용 in-line 진공아크 증착장비 제작

2003년 7월
한국반도체 장비학회에서 고밀도 플라즈마 화학증착장비 관련하여 우수논문상 수상

2003년 11월
대용량 평면광원 고진공 테스트 장비 생산

2004년 1월
다기능 연구용 표준스퍼터 시스템 개발

2004년 7월
나노튜브와 나노와이어 분야에서 미국의 아토메이트(Atomate)사와 파트너쉽 체결

2005년 7월
독일의 프라운호퍼 연구소 및 FHR 사와 PVD 분야 파트너쉽 체결

2005년 10월
Atomate(USA)와 공동으로 MOCVD 장비개발 완료

2005년 11월
생산기술연구원과 공동으로 NPPN(New Post Plasma Nitriding) System 개발

2005년 11월
신축공장 준공

2005년 12월
레이져 프린터용 폴리곤 미러 증착장비 생산

2006년 3월
정밀광학용 이온빔스퍼터 장비 개발

2006년 4월
생산기술연구원과 공동으로 NPPN(New Post Plasma Nitriding) System 개발

2006년 10월
양산용 아크이온플레이팅 장비 및 플라즈마 질화장비 생산

2006년 11월
다양한 색상의 코팅을 위한 이온플레이팅 장비개발

2007년 4월
CNT 투명전극용 Arc CNT 합성 장비개발

2007년 9월
플렉시블 디스플레이 연구용 Web Coater 개발

2007년 12월
안경렌즈 코팅용 스퍼터 장비 개발 완료

2008년 1월
태양전지용 다결정 실리콘 잉곳 성장 장비 개발 완료

2008년 6월
태양전지 무반사 코팅 PECVD 장비 개발완료

2009년 8월
Graphene 증착용 PECVD 장비 개발완료 
2009년 10월 베트남 호치민 대학 Thermal CVD 납품 및 장비 운영 교육 
2010년 1월 인하대 정지원 교수팀과 아텍시스템, UNITEF로부터 우수 연구상 수상 
2010년 3월  한국 생산기술연구원과 공동연구를 통해 양산규모의 알루미늄 플라즈마 질화 장비 개발 완료