나노메트릭스 코리아(주) 기업정보

* 회사소개
1975년에 미국의 실리콘밸리에서 막 두께 측정장비의 개발 및 생산을 시작으로 설립된 Nanometrics사는, 이후 반도체 Fab 공정에 적용되는 최초의 비접촉식 광학적 박막 두께측정 장비를 소개하여 박막 두께측정 분야의 대명사가 되었다.
이때 소개된 Nanospec 시리즈는 분광반사 광도계를 대표하여 Nanospec (나노스펙)으로 반도체 분야 연구자 또는 종사자들에게 불리워지는 대표 키워드가 되었다.
이에 한국내의 반도체 시장의 중요성을 감안하여 1996년 이래로 Nanometrics사의 한국 내 지사인 Nanometrics Korea가 설립되어 현재에 이르고 있다.

 현재에는 두 종류의 아이템이 공급되고 있는데, 위에서 언급한 박막 두께측정 장비와 Photo (사진식각) 공정 이후에 측정하는 Overly 적층 측정 장비로 구분된다.
두께 측정장비는 스몰 스폿 분광 엘립소미터 (Small spot Spectroscopic Ellipsometer)를 분광 반사광도계 (Spectroscopic Relectometer)를 결합시켜 초박막, 두꺼운 막(30um), 다층 박막(Multi-layer films), 다층 초박막 등의 측정이 가능하다. 또한, NIOCD (Normal Incidence Optical Critical Dimension) Optics를 이용한 OCD (광학적 CD) 측정이 가능하다.

 이러한 장비에는 최근에 주로 공급되는 Atlas 모델이 있으며, 기 공급되어 사용 중인 9100, 8000등의 모델이 있다.

 지금까지 언급한 장비가 독립적으로 운용 가능한 Stand-alone Type이라면, 주로 공정 (Process) 장비에 장착하여 박막두께 측정 및 OCD 측정은 물론 APC/CLC 등의 기능을 사용하여 공정 장비의 실시간 모니터링 및 공정조건 최적화가 가능한 IM (In-line Metrology) 장비인 9010 시리즈가 있다. 그리고 Mask 측정용 장비인 Atlas-M 또는 9010M 등의 장비가 있다. Table top 형식의 저가 모델인 Nanospec 3000 및 6100 장비가 있으며, LCD 기판 측정을 위한 Nanospec 6500 시리즈가 공급되고 있다.
Overlay 측정 장비에는, Orion 모델이 현재 공급 중이며, Metra 모델은 기 공급되어 사용 중이다.

 더불어 Overlay 측정장비의 시장 점유율을 획기적으로 개선하기 위해 Overlay 장비 전문회사인 Accent사와 함께 Soluris사의 합병을 2006년 초 단행하였다. 최근에는 웨이퍼의 후면 파티클 (Back side Particle) 측정에 탁월한 성능을 가진 DFI (Dark Field Inspection) 모델이 개발 완료되어 공급을 준비 중이다. 위에 언급된 장비들이 고객 요구에 부합되도록 끊임 없는 기술 개발이 계속 진행되고 있다.






당사는 미국 실리콘 벨리에 본사를 두고 있는 Nanometrics Inc.의 한국법인으로서 당사의 많은 매출 신장 그리고 국내 생산을 위하여 반도체 및 LCD분야의 장비 산업을 이끌어 나갈 인재를 모집하고 있습니다.